DEPOSICION QUÍMICA DE VAPOR (CVD)
 Ventajas:
 1)es posible depositar materiales refractarios a temperaturas abajo de sus
puntos de fusión o sinterizado,
 2) es posible controlar el tamaño del grano,
 3) el proceso se realiza a presión del ambiente normal (no requiere
equipo de vacío) y
 4 ) hay una buena unión del recubrimiento a la superficie del sustrato.
 Desventajas:
 1) La naturaleza corrosiva y tóxica de los productos químicos (por lo
general, requiere una cámara cenada al igual que equipo de bombeo y
disposición especial).
 2) Ciertos ingredientes para la reacción son relativamente costosos
 3) La utilización del material es baja.